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Intel Larrabee将采用45nm工艺

振华网 2007年07月03日作者：阿亮编辑：阿亮

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Intel Larrabee图形处理器的秘密武器将是45nm工艺。

Intel将采用45nm工艺来生产Larrabee图形处理器，这肯定会使Larrabee图形处理器的耗电量优于竞争产品。

同时，Intel公司认为，这种晶体管的突破是电脑图形技术前进的方向。Intel公司图形芯片和图形多处理器在晶体管工艺上的提升，将有可能让AMD ATI和NVIDIA非常头疼，因为它们都在晶体管和图形芯片工艺上要落后于强大的Intel。

另外，关键的一点是，Intel 45nm这种高钾金属栅晶体管和业界普通工艺的晶体管相比，可以显着减少电流的渗漏，最高减少幅度可以达到20%，还可以将晶体管开关功耗降低30%。

对比一下，NVIDIA的G80图形芯片采用90nm，晶体管门宽两倍于Intel的45nm Larrabee图形处理器。